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半導體業如何利用碳捕捉減排?台科大陳奕宏解析晶圓製程淨零挑戰

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現行晶片製造場域正著手執行碳捕捉技術。(圖片來源:iStock)

現行晶片製造場域正著手執行碳捕捉技術。(圖片來源:iStock)

有鑒於氣候變遷為環境、生存與國家安全帶來的威脅日益漸增,全球已有超過 130 個國家提出「2050 淨零排放」的宣示與行動。而台灣以「矽島」之名立足全球,更仰賴堅強半導體科技實力,成為全球產業發展背後重要的供應鏈一環,面對永續發展議題更是責無旁貸。

對此,我國不只公布了「台灣 2050 淨零排放路徑及策略總說明」及「12 項關鍵戰略行動計畫」,更核定「淨零排放路徑 112 – 115 年綱要計畫」,針對淨零碳排目標進行各面向的減緩與調適,以期能提升台灣在綠色產業的競爭力。

特別是無所不在的「晶片」已滲透到各行各業,使得半導體產業上下游更需群策群力,加速規劃淨零碳排的策略與解決之道。根據環境部提供的 2023 年數據,全台半導體製造業共有 132 間廠房,數量之多為各產業之最,而碳排放量則為 2131.3 萬噸,佔整體(2.14 億噸)的 10%。

「因此我們必須嘗試從範疇一的環節中著手找出解決方法,」國立台北科技大學化學工程與生物科技系陳奕宏教授點出關鍵。不過,究竟什麼是「範疇一」?

從溫室氣體盤查議定書(the greenhouse gas protocal, GHG Protocol)定義來看,溫室氣體排放可以分為三個範疇分類。範疇一是指「企業擁有或控制的直接排放」,如製程中使用全球暖化潛勢(global warming potential, GWP)高之工業氣體等;範疇二則是指「使用電力所產生的間接排放」,類似蝕刻機等製程機台設備,以及控制溫度、濕度、廢氣的無塵室設備的用電等。

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